提高能效-降低能耗
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發(fā)布時(shí)間：2019-10-14 00:00:00
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公司主營：太陽能行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、LED行業(yè)和液晶玻璃基板等行業(yè)的濕法清洗刻蝕設(shè)備、電鍍設(shè)備、尾氣處理設(shè)備和化學(xué)自動供液系統(tǒng)等設(shè)備的研發(fā)生產(chǎn)工作。
我們相信設(shè)計(jì)質(zhì)量＋物料質(zhì)量＋生產(chǎn)質(zhì)量＝設(shè)備質(zhì)量。我們著重于所有設(shè)備與開發(fā)新產(chǎn)品相關(guān)的各項(xiàng)鉆研，如設(shè)備定位及功能設(shè)計(jì)、零件挑選、設(shè)備測試及環(huán)境考慮等，且不斷堅(jiān)持對于質(zhì)量的重視與創(chuàng)新的開發(fā)。
全部分類
SIC切割后清洗機(jī)
SIC切割后清洗機(jī)
1）： 擁有多種規(guī)格型號，適用于不同尺寸SIC晶圓的清洗；
2）： 適用于4寸丶、6寸、8寸等多規(guī)格SIC襯底片的刻蝕清洗
3）： 全自動控制，機(jī)械手傳遞片籃，采用工控機(jī)+觸摸屏控制方式，電器件均采用進(jìn)口品牌
SIC全自動預(yù)清洗機(jī)
SIC全自動預(yù)清洗機(jī)
1）： 適用SIC襯底片的預(yù)清洗，可兼容4寸、6寸、8寸規(guī)格
2）： 全自動控制，高速機(jī)械手，保證設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)，定位可靠
3）： 設(shè)備外觀大氣、結(jié)構(gòu)緊湊
SIC全自動去蠟清洗機(jī)
SIC全自動去蠟清洗機(jī)
1）： 適用SIC襯底片的去蠟清洗，可兼容4寸、6寸、8寸規(guī)格
2）： 全自動控制，高速機(jī)械手，保證設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)，定位可靠
3）： 設(shè)備外觀大氣、結(jié)構(gòu)緊湊
SIC拋光后清洗機(jī)
SIC拋光后清洗機(jī)
1）： 適用SIC襯底片的拋光后清洗，可兼容4寸、6寸、8寸規(guī)格
2）： 全自動控制，高速機(jī)械手，保證設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)，定位可靠
3）： 設(shè)備外觀大氣、結(jié)構(gòu)緊湊
SIC倒角后清洗機(jī)
SIC倒角后清洗機(jī)
1）： 適用SIC襯底片的倒角后清洗，可兼容4寸、6寸、8寸規(guī)格
2）： 全自動控制，高速機(jī)械手，保證設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)，定位可靠
3）： 設(shè)備外觀大氣、結(jié)構(gòu)緊湊、干法下料
SIC研磨后清洗機(jī)
SIC研磨后清洗機(jī)
1）： 適用SIC襯底片的刻蝕清洗，可兼容4寸、6寸、8寸規(guī)格
2）： 全自動控制，高速機(jī)械手，保證設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)，定位可靠
3）： 可選自動配/補(bǔ)液，超聲波、溢流循環(huán)、過濾、在線加熱等功能
企業(yè)動態(tài)
半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中玻璃硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。
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